Standard Definitionen

Die Ebenheit eines Wafers wird mit Hilfe eines automatischen Messgerätes interferometrisch bestimmt, wobei eine zur Scheibenvorderseite berechnete Fokusfläche als Referenzebene für die Ermittlung der jeweiligen Ebenheitsparameter herangezogen wird. Der Randausschluss beträgt jeweils 3 mm.

TTV (Globale Dickenvariation)

... die Summe aus maximaler positiver und dem Betrag der maximalen negativen Abweichung der Scheibenvorderseite von der Referenzebene, die hinsichtlich der Auflagefläche, einem hochebenen Messchuck, nicht verkippt ist, wobei der Wafer mittels Vakuum angesaugt wird.

TIR (Globale Ebenheitsabweichung)

... die Summe aus maximaler positiver und dem Betrag der maximalen negativen Abweichung der Scheibenvorderseite von der verkippten Referenzebene, gemessen im angesaugten Zustand.

Bow (Durchbiegung)

... der Wert entweder aus maximaler positiver oder maximaler negativer Abweichung der Scheibenvorderseite von der verkippten Referenzebene in der Scheibenmitte, gemessen im nicht-angesaugten Zustand. Dieser Wert kann positiv oder negativ sein.

Warp (Krümmung)

... die Summe aus maximaler positiver und dem Betrag der maximalen negativen Abweichung der Scheibenvorderseite von der verkippten Referenzebene, gemessen im nicht-angesaugten Zustand.

Definitionen

Los
a) Gesamtheit aller Wafer einer Lieferung mit nominell gleichen Eigenschaften (Spezifikation)
b) Teillieferung einer größeren Gesamtmenge (wie unter a definiert)
c) Häufig werden auch jene Wafer, die von einem einzelnen Kristall erzeugt wurden, als Los bezeichnet.

Dotierelement - ein chemisches Element, im Falle von III-V-Halbleitern vorzugsweise aus der zweiten, vierten oder sechsten Hauptgruppe des Periodensystems, welches in Spuren in das Kristallgitter eingebaut wird, um einen bestimmten Leitungstyp und Widerstand zu erreichen.

Orthogonale Fehlorientierung - in {100} orientierten Wafern mit bewusster Fehlorientierung als Winkel zwischen der Projektion des Normalenvektors der Waferoberfläche auf die {100} Ebene und der Projektion des Kipprichtungsvektors auf diese {100} Ebene definiert. Sie bezieht sich auf den Fehler in der Richtung, nicht auf die Größe der Fehlorientierung. Der Wert sollte nach SEMI-Standard bei maximal ±5° liegen.

Erforderliche Kriterien Optionale Kriterien
Nomineller Durchmesser Einkristallzüchtungsmethode
Dicke (vgl. Standardspezifikationen
für verschiedene Durchmesser)
Versetzungsdichte (EPD)
Globale Dickenvariation (TTV) Dotierungselement (-typ)
Scheibenorientierung Elektrischer Widerstand
Prüfkriterien Elektronenbeweglichkeit
Zu zertifzierende Parameter Ladungsträgerkonzentration
Verpackung und Etikettierung Oberflächenzustand